삼성전자-성균관대, 이온빔 쏴서 차세대반도체 하프늄옥사이드 메모리 성능 3배 끌어올렸다 - 동아사이언스

김윤석 교수 제공한국 연구자가 주도한 국제 공동 연구진이 차세대 반도체 소재로 주목받는 하프늄옥사이드의 메모리 성능을 이온빔만 쏘는 공정만으로도 3배 이상 높일 수 있는 기술을 개발했다.성균관대 김윤석 신소재공학...

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