绕过EUV光刻国内厂商开发出DRAM内存芯片新技术- 硬件 - cnBeta

EUV光刻机是研制先进芯片的一条路径，但并非唯一解。对于国内厂商来说，当前在3DNAND闪存的发展上，就因为不需要EUV机器，从而找到了技术追赶的机会。而在DRAM内存芯片领域，尽管三星、美光、SK海力士找到的答案都是EUV，可来自浙江海宁的芯盟则开辟出绕过EUV光刻的新方案。

CSTIC 2022CEOHITOC3D 4F² DRAM HITOC3D 4F² DRAMEUVSAQPSelf-Aligned Quadruple Patterning HITOCHeterogeneous Integration Technology on Chip 3D 4F² DRAMCMOSArray HITOCAISUNRISEHPC2HITOC3D (ICLeague)… [+14 chars]

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